直讀光譜儀的發(fā)展歷程
來(lái)源：杰博科技 次數(shù)： 發(fā)布時(shí)間：2018/7/20 9:14:52
光譜起源于17世紀(jì)，物理學(xué)家牛頓第一次進(jìn)行了光的色散實(shí)驗(yàn)。然而自牛頓以后，一直沒(méi)有引起人們的注意。在百年后的發(fā)展探索與研究，1859年克希霍夫和本生為了研究金屬的光譜自己設(shè)計(jì)和制造了一種完善的分光裝置，這個(gè)裝置就是世界上第一臺(tái)實(shí)用的光譜儀器，研究火焰、電火花中各種金屬的譜線，從而建立了光譜分析的初步基礎(chǔ)。
直至1882年，羅蘭發(fā)明了凹面光柵，即是把劃痕直接刻在凹球面上。凹面光柵實(shí)際上是光學(xué)儀器成象系統(tǒng)元件的合為一體的高效元件，它解決了當(dāng)時(shí)棱鏡光譜儀所遇到的不可克服的困難。凹面光柵的問(wèn)世不僅簡(jiǎn)化了光譜儀器的結(jié)構(gòu)，而且還提高了它的性能。
1928年以后，由于光譜分析成了工業(yè)的分析方法，光譜儀器得到迅速的發(fā)展，一方面改善激發(fā)光源的穩(wěn)定性，另一方面提高光譜儀器本身性能。
最早的光源是火焰激發(fā)光譜；后來(lái)又發(fā)展應(yīng)用簡(jiǎn)單的電弧和電火花為激發(fā)光源，在上世紀(jì)的三十、四十年代改進(jìn)采用控制的電弧和電火花為激發(fā)光源，提高了光譜分析的穩(wěn)定性。工業(yè)生產(chǎn)的發(fā)晨，光譜學(xué)的進(jìn)步，促使光學(xué)儀器進(jìn)一步得到改善，而后者又反作用于前者，促進(jìn)了光譜學(xué)的發(fā)展和工業(yè)生產(chǎn)的發(fā)展。
六十年代光電直讀光譜儀，隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展開(kāi)始迅速發(fā)展。由于計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展，電子技術(shù)的發(fā)展，電子計(jì)算機(jī)的小型化及微處理機(jī)的出現(xiàn)和普及，成本降低等原因、于上世紀(jì)的七十年代光譜儀器幾乎100％地采用計(jì)算機(jī)控制，這不僅提高了分析精度和速度，而且對(duì)分析結(jié)果的數(shù)據(jù)處理和分析過(guò)程實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制。
解放后，我國(guó)的光譜儀器工業(yè)從無(wú)到有，由小到大，得到飛躍的發(fā)展，且具有一定的規(guī)模，與世界先進(jìn)技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)中求生存，社會(huì)商品競(jìng)賽中得到發(fā)展。
1958年開(kāi)始試制光譜儀器，生產(chǎn)了我國(guó)第一臺(tái)中型石英攝譜儀，大型攝譜儀，單色儀等。中科院光機(jī)所開(kāi)始研究刻制光柵，59年上海光學(xué)儀器廠，63年北京光學(xué)儀器廠開(kāi)始研究刻制光柵，63年研制光刻成功。1966—1968年北京光學(xué)儀器廠和上海光學(xué)儀器廠先后研制成功中型平面光柵攝譜儀和一米平面光柵攝譜儀及光電直讀頭。1971—1972年由北京第二光學(xué)儀器廠研究成功國(guó)內(nèi)第一臺(tái)WZG—200平面光柵光量計(jì)，結(jié)束了我國(guó)不能生產(chǎn)光電直讀光譜儀的歷史。
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